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依據(jù)ISO14644-3、潔凈室及相關(guān)受控環(huán)境檢測(cè)技術(shù)分析與應(yīng)用GB/T36066-2018，對(duì)已裝過(guò)濾系統(tǒng)檢漏時(shí)通常采用氣溶膠光度計(jì)法和離散粒子計(jì)數(shù)器（DPC）法。兩種方法均采用氣溶膠發(fā)生器在過(guò)濾系統(tǒng)的上風(fēng)側(cè)注入20~80mg/m3的氣溶膠，通過(guò)氣溶膠光度計(jì)或粒子計(jì)數(shù)器先后測(cè)試過(guò)濾系統(tǒng)上風(fēng)側(cè)和出風(fēng)口的氣溶膠濃度，完成檢漏測(cè)試。粒子計(jì)數(shù)器測(cè)量空氣中懸浮粒子的數(shù)量和粒徑，由于光學(xué)系統(tǒng)的特殊性，必須借助氣溶膠稀釋器才可以測(cè)試高濃度的懸浮顆粒物。氣溶膠稀釋器可以通過(guò)稀釋系數(shù)01:1...

如今，許多產(chǎn)品的開發(fā)都需要經(jīng)過(guò)粉塵模擬環(huán)境的考驗(yàn)，氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器可以實(shí)現(xiàn)粉塵環(huán)境中粉塵濃度的定量標(biāo)定，也可以用于傳感器標(biāo)定等方面。通常，它包括容器，噴嘴，空氣入口，出口，液體入口等，主要適用于實(shí)驗(yàn)空氣微生物學(xué)中的微生物氣溶膠生成。氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器的操作必須遵循說(shuō)明，否則會(huì)危害人身安全甚至死亡，并可能損壞儀器。本產(chǎn)品不適合在低溫，高濕和強(qiáng)陽(yáng)光照射的地方使用。通常，工作溫度為0?40℃，工作濕度為5％?95％，如果將產(chǎn)品用于任何其他目的，則儀器發(fā)生器的保護(hù)裝置將...

英國(guó)KP開爾文探針掃描（KPFM）主要應(yīng)用于化學(xué)領(lǐng)域、電化學(xué)領(lǐng)域和材料領(lǐng)域，開展表面無(wú)損分析、樣品表面形貌三維圖繪制、測(cè)量導(dǎo)體材料的表面功函數(shù)或半導(dǎo)體、絕緣表面的表面勢(shì)等。由于KPFM測(cè)量是AFM針尖與樣品之間的接觸電勢(shì)差，因此需要首先說(shuō)明AFM的工作原理。AFM的操作具有三種模式：分別為接觸模式、輕敲模式和非接觸模式。在接觸模式操作中，AFM的針尖接觸樣品表面，針尖和樣品之間排斥力使與針尖相連的懸臂偏轉(zhuǎn)，懸臂的偏轉(zhuǎn)被測(cè)量并用作反饋信號(hào)。在其他兩個(gè)模式下，懸臂以接近共振的頻率...

一、氣溶膠發(fā)生器，產(chǎn)生遮蔽或毒劑氣溶膠，用于電子干擾或毒害生靈的裝置。有氣懸體發(fā)生器、發(fā)煙罐、榴彈、炮彈、航空等。二、簡(jiǎn)單工作原理介紹：當(dāng)壓縮空氣從輸入口進(jìn)入后，通過(guò)噴嘴下端的小孔進(jìn)入閥座的腔室內(nèi)，在截止閥的鋼球上下表面形成差壓。由于泄漏和彈簧的作用，鋼球處于中間位置，壓縮空氣進(jìn)入存油杯的上腔，油面受壓，壓力油經(jīng)吸油管將單向閥的鋼球頂起，鋼球上部管道有一個(gè)方型小孔，鋼球不能將上部管道封死，壓力油不斷流入視油器內(nèi)，再滴入噴嘴中，被主管氣流從上面的小孔引射出來(lái)，霧化后從輸出口輸出...

2018年以來(lái)，ISO16890已經(jīng)完全取代之前EN779，成為空氣過(guò)濾器分類的國(guó)際有效測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)。ISO16890的導(dǎo)入標(biāo)志著行業(yè)范式的轉(zhuǎn)變。ISO16890是根據(jù)對(duì)不同粒徑顆粒物（PM）的過(guò)濾效率對(duì)空氣過(guò)濾器進(jìn)行分類，這使我們更加直觀地看到空氣過(guò)濾器產(chǎn)品與空氣污染物的直接聯(lián)系，同時(shí)也更加的清晰室內(nèi)空氣質(zhì)量（IAQ）與人體健康關(guān)聯(lián)。ISO16890與EN779標(biāo)準(zhǔn)與EN779相比，根據(jù)ISO16890進(jìn)行的測(cè)試程序更有區(qū)分度，ISO16890根據(jù)三種不同粒徑的顆粒物分組計(jì)算過(guò)...

一、光刻機(jī)(lithography)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。二、組成步驟：利用模版去除晶圓表面的保護(hù)膜、將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護(hù)膜的部分被腐蝕掉后形成電路、用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質(zhì)、模版和晶圓大小一樣，模版不動(dòng)、模版和集成電路大小一樣，模版隨曝光機(jī)聚焦部分移動(dòng)。三、曝光機(jī)是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ)，世界上只...